光刻计算
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【深度】光刻胶稀释剂属于光刻胶配套试剂 我国市场国产化进程加快
随着研究深入、技术进步，我国正型光刻胶稀释剂产量及质量不断提升，带动光刻胶稀释剂行业发展速度进一步加快。 光刻胶稀释剂指用于稀释光刻胶的溶剂，能够控制光刻胶的黏度和涂覆性能。光刻胶稀释剂需具备化学稳定性好、纯度高、溶解性好等优势，在半导体领域需求旺盛
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【深度】ArF光刻胶技术壁垒高 全球市场被日本企业垄断
在芯片制造过程中，光刻工艺的作用是精细线路图形加工，光刻胶的分辨率可直接影响芯片最小特征尺寸，而缩短曝光波长可提高光刻胶分辨率。ArF光刻胶，是半导体光刻胶的一种，属于高端光刻胶产品，用来制造12英寸大硅片（硅晶圆）
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彤程新材，全面布局高端光刻胶
前言 全球领先的新材料综合服务商彤程新材全面布局高端光刻胶，核心半导体材料光刻胶，步入国产替代机遇期。自中美贸易摩擦发生以来，加大国产替代步伐的呼声高涨，光刻胶国产替代或将是长远的未来彤程新材：新材料综合服务商，全面布局高端光刻胶彤程新材成立于2008年，目前是全球领先的新材料综合服务商
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2021年中国及31省市光刻胶行业政策汇总及解读
光刻胶行业主要上市公司：飞凯材料（300398）、容大感光（300576）、广信材料（300537）、上海新阳（300236）、永太科技（002326）、雅克科技（002409）、江化微（603078）等
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光刻胶及国产化进程分析
作为半导体制造的核心流程,光刻工艺对于芯片制造来说至关重要。光刻胶是光刻工艺最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻精度至关重要。因此,光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠,是半导体产业最关键的材料。近年来,面对寡头垄断格局,中国半导体产业掀起了一股国产化替代的浪潮
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默克推出用于芯片制造的新一代环保光刻胶去除剂
德国达姆施塔特， 2021年7月 28日 –－ 全球领先的科技公司默克日前宣布推出新一代环保精密清洗溶剂产品 －－ AZ® 910 去除剂。该系列产品用于半导体芯片制造图形化工艺中清除光刻胶
环保光刻胶去除剂 2021-07-28 -
本身不是特别高端的光刻胶,中国企业为啥也造不了？
啥是半导体材料?说白了就是真正把芯片造出来的原材料,如果把芯片比作面包,那么材料就是面粉。但是,由于芯片的复杂性,在其制作过程中,所需要的材料当然不会像面包那么简单,每种材料都有各自的作用且不可或缺。
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一文看懂光刻胶技术发展史
该文章素材来源于中科院微电子研究所、半导体行业观察光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上
光刻胶技术 2021-05-28 -
光刻胶概念股暴涨！光刻胶产业链国产化大势所趋！
光刻胶概念股27日涨疯！光刻胶概念股——41家上市公司全涨！晶瑞股份、广信材料、芯碁微装、奥普光电、格林达涨停！为何涨？据媒体报道，由于KrF光刻胶产能受限以
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2021年全球光刻胶行业市场现状及发展前景分析
光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。按下游应用分类,可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶,2019年,面板显示仍是全球光刻胶产品最大的应用领域;半导体光刻胶市场规模已达18亿美元。据Reportlinker机构预测
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AI芯片如果有“罗马大道” 必归功可重构计算
在芯片架构设计领域中，可重构计算技术并非一项新的存在。20世纪60年代末，加利福尼亚大学的Geraid Estrin首次提出重构计算，后过去二十余年，Xilinx才基于这一原型系统推出该技术的重要分支——FPGA架构，正式开启现代重构计算技术。
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中国高性能计算机TOP100揭晓，系统均已国产化
高性能计算机（主要为超算）的计算能力预示着国家在高精尖领域的技术能力，其对航空航空航天、国防、科研等领域都有深刻的影响，因此各国都十分重视这一类计算机的研发。
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