由于种种原因的影响，国内对于先进工艺的量产一直很难得到真正的信息，而近日某科技企业高管则表示中国实现了7纳米的量产，表示这已是了不起的进步，今日有光刻胶企业表示7纳米光刻胶也已量产，意味着先进的7纳米也摆脱了对日本的依赖。

业界谈到芯片制造的时候，关注的都是光刻机这项关键设备，其实先进的芯片制造工艺除了光刻机等设备之外，还需要诸多芯片材料的辅助，其中光刻胶就是其中的一项关键材料，而日本恰恰在这方面占据优势。

2020年起，美国拉拢ASML限制对中国出售先进光刻机，随后又拉拢日本阻止对中国出售先进材料，日本随即宣布限制23种芯片材料对中国出口，此时业界才发现日本原来在芯片制造行业也有如此强大的影响力。

据悉日本在芯片材料行业占据绝对优势，中国台湾、韩国和美国的芯片制造企业都需要依赖日本的芯片材料，没有日本的先进芯片材料，台积电就无法生产5纳米、3纳米芯片，可以看出日本对于芯片制造行业的强大影响力。

不过日本也不能滥用这种影响力，数年前日本与韩国产生纠葛，日本停止对韩国供应光刻机，韩国迅速组织三星、SK海力士等多家韩国芯片企业自研光刻胶，仅仅一年时间，韩国就研发出了先进的光刻胶，不再需要日本的光刻胶，让日本光刻胶后悔不迭。

对此中国同样做好了充分准备，中国正在积极研发自己的光刻机，并且努力完善自己的芯片制造产业链，而光刻胶正是中国积极攻关的一项重要技术，如今中国已有多家企业研发光刻胶。

日前国内一家企业就宣布研发成功的7纳米先进光刻胶已投入生产，并被国内芯片制造企业采用，它研发的光刻胶已覆盖了G线、ArF、ArFi等多个波长的光刻胶，从28纳米以上的成熟工艺到7纳米的先进光刻机都实现了国产化。

国产化的7纳米工艺量产，意味着着国产芯片制造工艺进一步自主化，摆脱对海外芯片材料和设备的依赖，走出了自己独立发展的道路，日本的芯片材料产业将再遭重大打击，毕竟中国已是全球最大的芯片设备和材料市场，而日本又已失去韩国市场，再失去中国市场，日本的芯片材料和设备产业将进一步衰落。

中国这家科技企业高管认为，中国实现7纳米工艺的量产具有极为重要的意义，7纳米已达到世界较为先进的水平，这也是全球第四家实现7纳米工艺，格芯、台联电等已止步于14纳米，中国拥有较为先进的工艺，就可以通过芯片架构、软件算法等方面的创新，进一步提升整体性能，走出自己的特色道路。

中国拥有全球最多的人才，中国人也在芯片技术方面拥有独特的天赋，拥有全球最先进工艺的台积电正是华人在芯片技术方面独特天赋的体现，而美国诸多芯片企业如NVIDIA、AMD都由华人掌握，还有大量华人工程师在美国从事芯片技术研发，都证明了这一点，相信中国的工程师必然可以突破困扰，走出自己芯片技术道路，自主创新不会是空话。

       原文标题 : 科技企业高管确认量产7纳米，光刻胶纯国产化，摆脱对日本的依赖