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千亿半导体市场全面分析:国内拥有三大梯队!

2021-01-14 16:10
史晨星
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日本 JSR 合成橡胶:光刻胶龙头    

1957年成立,1977 年进入半导体光刻胶业务,2017 年与比利时 IMEC 微电子研究所成立 EUV RMQC 光刻胶制备和认证中心

美国空气化工 Air Products:电子特气龙头

美国空气化工核心业务是工业气体以及相关设备,1987 年进入中国在深圳蛇口设立气体工厂,是西方气体公司在中国成立的第一家合资企业

德国巴斯夫 BASF:化学品龙头

1865 年成立,是全球最大的化工公司,也是全球主要的半导体材料制造商之一,半导体材料产品主要包括抛光材料、超净高纯试剂、电镀液等

美国卡博特 Cabot:抛光材料龙头

卡博特微电子 Cabot Microelectronics 是全球第一大抛光液和第二大抛光垫供应商,2004 年与中国蓝星(集团)公司成立了气相金属氧化物合资企业

日本日矿金属:靶材龙头

日本揖斐电:封装基板龙头

日本揖斐电(IBIDEN)创立于 1912 年,电子板块主要从事印刷电路板(PCB)、封装衬底、PCB 设计,在 IC 封装基板方面,CavityBGA、FCPGA 封装基板占全球 40%的份额

98. 中国大陆:三大梯队

根据我国半导体材料细分产品竞争力,分为三大梯队:

第一梯队:靶材、封装基板、CMP 抛光材料、湿电子化学品,引线框等部分封装材料,部分产品技术标准达到全球一流水平,本土产线已实现中大批量供货 第二梯队:电子气体、硅片、化合物半导体、掩模版,个别产品技术标准达到全球一流水平,本土产线已小批量供货或具备较大战略意义

第三梯队:光刻胶,技术和全球一流水平存在较大差距,目前基本未实现批量供货

晶圆材料:群雄混战,龙头未显

北京科华:光刻胶龙头

北京科华成立于 2004 年 8 月,I 线365nm光刻胶产能 500 吨/年、KrF 248nm 光刻胶产能10 吨/年,ArF 193nm 干法光刻胶中试产品完成测试,EUV 13.5nm 光刻胶完成关键材料设计、制备和合成工艺研究、配方组成和制备,与国际先进水平只差一代

华特股份:电子特气龙头

1999 年成立于广东省佛山市南海区里水镇,主营工业气体生产,以氟碳类气体见长,2017 年 Ar/F/Ne、Kr/Ne、Ar/Ne 和 Kr/F/Ne 等 4 种混合气通过全球最大的光刻机 ASML 产品认证,中国第一,全球前四,2019年登陆科创板

江华微:化学品龙头

目前国内生产规模最大、品种最齐全、配套性最强的超高纯湿电子化学品专业集成服务提供商,建有年产 8 万吨的超高纯湿电子化学品生产基地,硝酸、氢氟酸、氨水等细分产品达到 G4、G5 行业水平

安集微电子:CMP 抛光材料龙头

安集微电子2006年成立于上海,2019年科创板上市,主要产品为化学机械抛光液、清洗液、光阻去除液、抛光垫等,抛光液覆盖 130nm~28nm,进入 16-10nm 产品研发阶段

江丰电子:靶材龙头

江丰电子主营高纯溅射靶材的研发、生产和销售,主要有四种:铝、钛、钽、钨钛靶,应用于半导体、平面显示以及太阳能等,在14/16  纳米技术节点实现批量供货,完成国家 02 重大专项(300mm 硅片工艺用Al、Ti、Ta 靶材制造技术研发与产业化)项目验收

深南电路:基板龙头

PCB 、封装基板、电子装联三大业务,硅麦克风微机电系统封装基板全球市场占有率超过 30%,公司已授权专利 223 项,人才数量达1194 人

最后一张图总结


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