抛光
-
鼎龙股份:CMP抛光垫助力业绩爆发
本文来自方正证券研究所2022年1月21日发布的报告《鼎龙股份:CMP抛光垫助力业绩爆发,稳步扩产未来可期》,欲了解具体内容,请阅读报告原文事件:1月19日,公司发布2021年业绩预告,预计实现归母净利润2.08-2.38亿元,预计实现扣非归母净利润1.9-2.2亿元,扭亏为盈
-
随着国家政策支持和下游市场的发展,CMP抛光液国产化进程加快
CMP抛光液为均匀分散的乳白色胶体,原料主要包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等,通常起到研磨、腐蚀溶解等作用。CMP即化学机械抛光,是半导体制造过程中的关键流程之一。CMP抛光材料种类较多,主
-
斯利通氮化铝陶瓷研磨抛光的方法
氮化铝陶瓷电路板的制作流程是非常复杂的,之前有讲到过,第一步就是氮化铝陶瓷电路板的表面处理,也叫作研磨研磨,其作用是去除其表面的附着物以及平整度的改善。
氮化铝陶瓷电路板 2017-10-30
最新活动更多 >
-
4月1日立即下载>> 【村田汽车】汽车E/E架构革新中,新智能座舱挑战的解决方案
-
4日10日立即报名>> OFweek 2025(第十四届)中国机器人产业大会
-
即日-4.22立即报名>> 【在线会议】汽车腐蚀及防护的多物理场仿真
-
4月23日立即报名>> 【在线会议】研华嵌入式核心优势,以Edge AI驱动机器视觉升级
-
4月25日立即报名>> 【线下论坛】新唐科技2025新品发布会
-
限时免费试用立即申请>> 东集技术AI工业扫描枪&A10DPM工业数据采集终端
最新招聘
更多
维科号
我要发文 >