磁流体抛光
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鼎龙股份:CMP抛光垫助力业绩爆发
本文来自方正证券研究所2022年1月21日发布的报告《鼎龙股份:CMP抛光垫助力业绩爆发,稳步扩产未来可期》,欲了解具体内容,请阅读报告原文事件:1月19日,公司发布2021年业绩预告,预计实现归母净利润2.08-2.38亿元,预计实现扣非归母净利润1.9-2.2亿元,扭亏为盈
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随着国家政策支持和下游市场的发展,CMP抛光液国产化进程加快
CMP抛光液为均匀分散的乳白色胶体,原料主要包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等,通常起到研磨、腐蚀溶解等作用。CMP即化学机械抛光,是半导体制造过程中的关键流程之一。CMP抛光材料种类较多,主
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斯利通氮化铝陶瓷研磨抛光的方法
氮化铝陶瓷电路板的制作流程是非常复杂的,之前有讲到过,第一步就是氮化铝陶瓷电路板的表面处理,也叫作研磨研磨,其作用是去除其表面的附着物以及平整度的改善。
氮化铝陶瓷电路板 2017-10-30
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